荷兰再次出手 我们低估了光刻机难度 想弯道超车要走新路

导读 近日,荷兰政府发布的半导体制造设备的相关法规,后续荷兰光刻机巨头阿斯麦公司发布公告,声称当下最先进的浸没式duv光刻机设备出口需要得…

近日,荷兰政府发布的半导体制造设备的相关法规,后续荷兰光刻机巨头阿斯麦公司发布公告,声称当下最先进的浸没式duv光刻机设备出口需要得到荷兰政府的认证,如果未经认证不能出口的管制国家,这一次的消息再次引发了业内人士的议论,据了解,美国和荷兰企图在半导体领域给中国芯片制造商再来一记重拳,通过这种方式来限制对华销售芯片制造设备。

在此之前,芯片制造领域euv光刻系统已经受到出口限制,如今浸润式Duv光刻系统也已经受到最新的出口管制,不过阿斯麦公司表示,并非是所有的光刻机设备系统都受到管制,从阿斯麦公司的通告中可以得知,中国依然能够从阿斯麦公司进口部分低端的光刻机设备,但是这些设备的技术都相对来说比较落后,一些先进的光刻机是无法出口的。

从美国与其盟国的这些做法来看,对方是想卡住中国芯片发展的道路,想要让中国芯片在高端市场的发展受到限制,除此之外在低端光刻机领域方面,对方还是给中国的设备进口留下一些余地,从目前的荷兰光刻机出口限制来看,中国的芯片行业不能够再盲目自信了,应该及时的转变自己的思路,想要在行业内生存就必须学会弯道超车,要找到一条全新的道路。

目前光刻机的需求量,中国市场可谓占据了全球的一半,2019年中国芯片制造商对光刻机的需求就已经占据了全球总销量的40%左右,预计这个数据在2023年还将会持续增加,届时占比就会超过50%,一个能够在整个行业内占据50%左右的大型市场,就这样被一些政策逼迫放弃,可以说是阿斯麦公司的悲哀,早在去年,阿斯麦公司就已经损失了40%的利润。

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