国产光刻机工厂落地雄安中国电子工程设计院澄清

导读 近期，网上有关国产光刻机工厂落地雄安的消息在各大平台上流传，消息称清华大学Euv项目把Asml的光刻机巨大化，并且该项目在雄安新区正式落…

近期，网上有关国产光刻机工厂落地雄安的消息在各大平台上流传，消息称清华大学Euv项目把Asml的光刻机巨大化，并且该项目在雄安新区正式落地。针对这个消息，中国电子工程设计院有限公司在9月18日发布声明称，该项目并非是网传的国产光刻机工厂，而是北京高能同步辐射光源项目。这个项目是国家的十三五重大科技基础设施，是当今世界上亮度最高的第四代同步辐射光源项目之一。

根据相关资料显示，HEPS主要是通过加速器将电子束加速到6GEV，然后利用接近光速的速度保持运转，电子束会在储存环的不同位置通过弯转磁铁或者是一些插入件偏转方向。从而释放出高能量，高亮度和稳定的光线，这种功能就是同步辐射光，可以把它看成一个超高速和超高精的巨型X光机器。